“嗯,去忙吧。”

    “好的。”

    待张鹤亭离开,陈星立马给林天发去微信语音留言,并没有选择拨打电话。

    因为考虑到他可能在洁净室工作,手机都存放在换衣间,留言反而是最有效的沟通方式。

    “四块光掩膜版已经产出,做好生产准备。”

    “咻——”

    语音发送。

    做完这一切的陈星靠在椅子,眼神难掩闪过激动,只有他们才知道四块光掩膜版是什么。

    一台48纳米制程的DUV光刻机,它的深紫外光源波长是193纳米,想生产14纳米的SOC上帝芯片就需要拆分四块。

    因为拆分两块的话,是28纳米间隔,拆分四块的话,电路图案的晶体管间隔就达到了56纳米,这样一来,48纳米的DUV光刻机精度就可以满足生产了。

    当然了。

    多重曝光技术也有极限。

    林天曾经在龙芯国际展示多重曝光技术的时候说过,图案拆分四块,曝光与蚀刻四次就是极限了,超过这个数字,先不说难度极具上升,半导体硅片以及电路图案也会相应受损。

    而目前需要四块光掩膜版的就只有SOC上帝芯片,林天听见语音自然能反应过来。

    在通知了林天后,他又给蓝绿厂的两位联合老总,段勇平与陈永打去电话告知,再给任国非发去微信文字信息。

    ……

    另一边。

    龙兴科技坂田荒地。

    任国非还在替陈星规划信号基站选址,与陈亚鹏以及工地施工队协商可能存在的问题。

    想要三百亩面积全部4G覆盖,那需要宏基站和微基站双重配合,因为2G、3G、4G信号分别对应了不同的覆盖范围。